PVD

Dari Wikipedia bahasa Melayu

PVD adalah singkatan kepada 'Physical Vapor Deposition'. Ia adalah teknik yang digunakan untuk memendapkan lapisan filem nipis ke atas pelbagai permukaan (seperti wafer semikonduktor) secara fizikal. PVD digunakan dalam pembuatan barangan termasuklah peralatan semikonduktor, milar beraluminium untuk belon dan beg snek, dan juga alat pemotong bersalut untuk kerja-kerja logam. Pengeluar utama peralatan PVD termasuklah Applied Materials (perkongsian pasaran ~78.1% pada 2004), Novellus (perkongsian pasaran ~6.2% pada 2004) dan Unaxis (perkongsian pasaran ~4.8% pada 2004). Pengguna utama peralatan PVD termasuklah Intel, Samsung dan Taiwan Semiconductor.

Jenis-jenis PVD ialah :

- Evaporative deposition (pemendapan sejatan)

- Sputtering (percikan)

- Pulsed laser deposition (pemendapan laser berdenyut)

- High velocity oxygen fuel (bahanapi oksigen berkelajuan tinggi)

Sila rujuk pemendapan filem nipis untuk perbincangan lebih am tentang teknik pengeluaran ini.