CVD

Dari Wikipedia Indonesia, ensiklopedia bebas berbahasa Indonesia.

Artikel ini perlu dirapikan agar memenuhi standar Wikipedia
Merapikan artikel bisa berupa membagi artikel ke dalam paragraf atau wikifikasi artikel.
Setelah dirapikan, Anda boleh menghapus pesan ini.
Artikel ini membutuhkan judul dalam bahasa Indonesia yang sepadan dengan judul aslinya

Chemical Vapor Deposition adalah proses kimia untuk memberi lapisan tipis pada permukaan wafer yang digunakan dalam pembuatan microsystem. Dalam proses ini, komponen gas bereaksi dipermukaan wafer dan membentuk lapisan tipis.

Energi yang digunakan untuk pemecahan dan eksitasi molekul antara lain:

  • Panas: Thermal CVD
  • Plasma: Plasma Enhanced CVD (PECVD)
  • Radiasi: Radiation Enhanced CVD